Wholesale AlTa Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made Manufacturer and Supplier |MPANANKARENA

Aluminum-Tantalum

AlTa Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made Featured Image

Famaritana fohy:

Sokajy	Alloy Sputtering Target
Formula simika	AlTa
fifehezan	Aluminum-Tantalum
fahadiovana	99,9%, 99,95%, 99,99%
endrika	Plates，Tsanganana tanjona，arc cathodes，Natao namboarina
Fizotry ny famokarana	Vacuum mitsonika, PM
Habe misy	L≤200mm, W≤200mm

Alefaso mailaka aminay

Product Detail

Tags vokatra

Ny lasibatra dia voaomana amin'ny fampifangaroana ny vovoka Aluminum sy Tantalum na ny fandoroana banga arahin'ny fametahana amin'ny hakitroky feno.Ireo akora mitambatra toy izany dia azo atao sinterina ary avy eo dia amboarina amin'ny endrika tiana kendrena.

Aluminum Tantalum sputtering kendrena manana fahadiovana avo, homogeneous microstructure sy tsara conductivity.Izany no be mpampiasa amin'ny fananganana ny manify sarimihetsika ho an'ny fisaka tontonana orinasa fampisehoana.Ny Aluminum Tantalum dia azo ampiana ihany koa mba hamokarana firaka Titanium avo lenta mba hanatsarana ny fahaizany amin'ny hafanana avo.

Ny votoatin'ny loto amin'ny firaka Al-Ta

fifehezan	Votoaty(%）
	Ta	Fe	Si	C	O
AlTa60	55.0–65.0	≤0.05	≤0.02	≤0.01	≤0.05
AlTa70	65.0–75.0	≤0.05	≤0.02	≤0.01	≤0.05

Rich Special Materials manokana amin'ny fanamboarana ny Sputtering Target ary afaka mamokatra Aluminum Tantalum Sputtering Materials araka ny mpanjifa 'famaritana.Ny vokatray dia manana toetra mekanika tsara, rafitra homogeneous, ambonin'ny poloney tsy misy fisarahana, pores na triatra.Raha mila fanazavana fanampiny dia mifandraisa aminay.

teo aloha: AlTi alloy Sputtering Target Purity Avo

Manaraka: AlCu Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made