Tongasoa eto amin'ny tranokalanay!

NiTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Nickel Tantalum

Famaritana fohy:

Sokajy

Alloy Sputtering Target

Formula simika

NiTa

fifehezan

Nikela tantalum

fahadiovana

99,9%, 99,95%, 99,99%

endrika

Plates,Tsanganana tanjona,arc cathodes,Natao namboarina

Fizotry ny famokarana

Vacuum mitsonika, PM

Habe misy

L≤200mm, W≤200mm


Product Detail

Tags vokatra

Nickel Tantalum Sputtering Targets dia amboarina amin'ny alàlan'ny fandoroana banga na fizotry ny metallurgical vovoka.Izy io dia manana fahadiovana ambony sy microstructure homogeneous.

Nickel Tantalum Sputtering Targets dia ampiasaina betsaka amin'ny aerospace, fiaramanidina, indostrian'ny fitetezana.Ny fanoherana tsara amin'ny fihetsiketsehan'ny hafanana ambony dia avy amin'ny habetsahan'ny Tantalum misy ao amin'ny firaka, izay manana hafanana mitsonika 3000 ° C.Aluminum, Yttrium ary Chronium dia matetika ampiana mba hanatsarana ny fananana.

Ny Rich Special Materials dia manam-pahaizana manokana amin'ny fanamboarana ny Sputtering Target ary afaka mamokatra Nickel Tantalum Sputtering Materials araka ny fepetra takian'ny mpanjifa.Raha mila fanazavana fanampiny dia mifandraisa aminay.


  • teo aloha:
  • Manaraka: