CrAl Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made
Chromium Aluminum
Ny fanamboarana ny Chromium Aluminum Sputtering Targets dia ahitana ireto dingana manaraka ireto:
1. Vovoka manoto sy mifangaro.
2. Ny fitsaboana fanerena isostatic mafana mba hahazoana vokatra semi-vita.
3. Machining ny chromium aluminium firaka sputtering kendrena fitaovana mba hahazoana ny chromium aluminium firaka sputtering kendrena fitaovana.
Nandritra ny dingan'ny fametrahana ny CrAl sputtering kendrena, dia miforona mafy Aluminium-Chrom-Nitrid (AlCrN) coating.Ity coating ity dia mampiseho ny hamafin'ny sy ny fanoherana ny oxidation na dia amin'ny hafanana ambony aza.Ny mpanapaka dia afaka mihazakazaka amin'ny sakafo avo lenta mba hampitomboana ny vokatra sy hampiakatra ny kalitao rehefa mampiasa milina CNC.
Ny tanjonay AlCr mahazatra sy ny fananany
| Cr-70Alamin'ny% | Cr-60Alamin'ny% | Cr-50Alamin'ny% | |
| Fahadiovana (%) | 99.8/99.9/99.95 | 99.8/99.9/99.95 | 99.8/99.9/99.95 |
| hakitroky(g/cm3） | 3.7 | 4.35 | 4.55 |
| Gorana Size(µm) | 100/50 | 100/50 | 100/50 |
| DINGANA | valahana | valahana | valahana |
Rich Special Materials manokana amin'ny fanamboarana ny Sputtering Target ary afaka mamokatra Aluminum Chromium Sputtering Materials araka ny mpanjifa 'famaritana.Ny vokatray dia manana toetra mekanika tsara, rafitra homogeneous, ambonin'ny poloney tsy misy fisarahana, pores na triatra.Raha mila fanazavana fanampiny dia mifandraisa aminay.
Ny sokajy vokatra
-
AlMg Alloy Sputtering Target Purity Thin F...
-
AlNi Alloy Sputtering Target High Purity Manify F...
-
AlCu Sputtering Kendrena Sarimihetsika Manify madio tsara...
-
AlNb Alloy Sputtering Target High Purity Manify F...
-
AlTi alloy Sputtering Target Purity Avo
-
AlSi Alloy Sputtering Target High Purity Manify F...
