Ny fandalinana vaovao ao amin'ny diary Diamond and Related Materials dia mifantoka amin'ny fametahana diamondra polycrystalline miaraka amin'ny FeCoB etchant mba hamoronana modely.Noho ireo fanavaozana ara-teknolojia nohatsaraina ireo, dia azo alaina tsy misy fahasimbana sy tsy misy kilema ny tampon'ny diamondra.
Fikarohana: Etching spatial fifantenana diamondra amin'ny fanjakana mafy mampiasa FeCoB miaraka amin'ny lamina photolithographic.Loharano sary: Bjorn Wilezic/Shutterstock.com
Amin'ny alàlan'ny dingan'ny fiparitahan'ny fanjakana matanjaka, ny sarimihetsika nanocrystalline FeCoB (Fe: Co: B = 60: 20: 20, ratio atomika) dia afaka manatratra ny tanjona lattice sy ny fanafoanana ny diamondra ao amin'ny microstructure.
Ny diamondra dia manana toetra biochemical sy hita maso, ary koa ny elasticité sy tanjaka avo.Loharanom-pandrosoana manan-danja amin'ny fandrefesana faran'izay tsara indrindra (teknolojia fanodinana diamondra) sy ny lalana mankany amin'ny fanerena mahery vaika ao anatin'ny GPa an-jatony ny faharetany faran'izay mafy.
Ny tsy fahampian'ny simika, ny faharetan'ny maso ary ny hetsika biolojika dia mampitombo ny fahafahan'ny famolavolana rafitra mampiasa ireo toetra miasa ireo.Diamond dia nanao anarana ho an'ny tenany eo amin'ny sehatry ny mechatronics, optika, sensor ary fitantanana data.
Mba hahafahan'ny fampiharana azy ireo, ny fatorana diamondra sy ny lamina dia miteraka olana miharihary.Reactive ion etching (RIE), inductively coupled plasma (ICP), ary electron beam induced etching dia ohatra amin'ny rafitra efa misy izay mampiasa teknika etching (EBIE).
Ny rafitra diamondra dia noforonina tamin'ny alàlan'ny teknika fanodinana laser sy ion beam (FIB).Ny tanjon'ity teknika fanamboarana ity dia ny hanafaingana ny delamination ary koa ny famelana ny fihoaram-pefy amin'ny faritra midadasika amin'ny rafitra famokarana misesy.Ireo dingana ireo dia mampiasa etchant ranoka (plasma, gazy, ary vahaolana amin'ny rano), izay mametra ny fahasarotana geometrika azo tratrarina.
Ity asa vaky tany ity dia mandalina ny fanalana fitaovana amin'ny famokarana etona simika ary mamorona diamondra polycrystalline miaraka amin'ny FeCoB (Fe: Co: B, 60: 20: 20 atomika isan-jato) eny ambonin'ny tany.Ny tena zava-dehibe dia ny famoronana modely TM ho an'ny fanodinkodinana marina ny rafitra metatra metatra amin'ny diamondra.Ny diamondra fototra dia mifamatotra amin'ny FeCoB nanocrystalline amin'ny fitsaboana hafanana amin'ny 700 hatramin'ny 900 ° C mandritra ny 30 hatramin'ny 90 minitra.
Ny sosona tsy misy santionany amin'ny santionany diamondra dia manondro rafitra micro polycrystalline ao ambaniny.Ny hakitroky (Ra) ao anatin'ny singa tsirairay dia 3.84 ± 0.47 nm, ary ny habetsan'ny ety rehetra dia 9.6 ± 1.2 nm.Ny henjana (ao anatin'ny voa diamondra iray) ny sosona metaly FeCoB nambolena dia 3.39 ± 0.26 nm, ary ny haavon'ny sosona dia 100 ± 10 nm.
Taorian'ny fanonganana tamin'ny 800 ° C nandritra ny 30 min, dia nitombo ho 600 ± 100 nm ny hatevin'ny metaly, ary ny roughness (Ra) dia nitombo ho 224 ± 22 nm.Mandritra ny fanodinkodinana dia miparitaka any amin'ny sosona FeCoB ny atoma karbôna, ka mitombo ny habeny.
Santionany telo misy sosona FeCoB 100 nm matevina no nafanaina tamin'ny mari-pana 700, 800, ary 900 ° C.Rehefa latsaky ny 700°C ny mari-pana dia tsy misy fifamatorana lehibe eo amin'ny diamondra sy ny FeCoB, ary kely dia kely ny fitaovana esorina aorian'ny fitsaboana hydrothermal.Ampitomboina hatrany amin'ny 800°C ny fanesorana fitaovana.
Rehefa nahatratra 900 ° C ny mari-pana dia nitombo avo roa heny ny tahan'ny etching raha oharina amin'ny mari-pana 800 ° C.Na izany aza, ny mombamomba ny faritra voasokitra dia tsy mitovy amin'ny an'ny filaharan'ny etch implanted (FeCoB).
Schematic mampiseho sary an-tsary etchant fanjakana mafy mba hamoronana lamina: spatially fifantenana toerana mafy orina diamondra mampiasa ny photolithographically lamina FeCoB.Sary nahazoan-dalana: Van Z. sy Shankar MR et al., Diamonds and Related Materials.
Ny santionany FeCoB 100 nm matevina amin'ny diamondra dia nokarakaraina tamin'ny 800 ° C nandritra ny 30, 60, ary 90 minitra.
Ny hamafin'ny (Ra) amin'ny faritra voasokitra dia nofaritana ho fiasan'ny fotoana famaliana amin'ny 800 ° C.Ny hamafin'ny santionany taorian'ny annealing nandritra ny 30, 60 sy 90 minitra dia 186 ± 28 nm, 203 ± 26 nm ary 212 ± 30 nm, tsirairay avy.Miaraka amin'ny halalin'ny etch 500, 800, na 100 nm, ny tahan'ny (RD) ny hamafin'ny faritra voasokitra amin'ny halalin'ny etch dia 0.372, 0.254, ary 0.212.
Ny hamafin'ny faritra voasokitra dia tsy mitombo be amin'ny fitomboan'ny halalin'ny etching.Hita fa mihoatra ny 700°C ny maripana ilaina amin'ny fihetsiky ny diamondra sy ny HM etchant.
Ny vokatry ny fanadihadiana dia mampiseho fa ny FeCoB dia afaka manala diamondra amin'ny fomba mahomby kokoa noho ny Fe na Co irery.
Fotoana fandefasana: Aug-31-2023