Amin'izao fotoana izao dia mihamaro ny mpampiasa mahatakatra ny karazana tanjona syny fampiharana azy, fa ny fizarana azy dia mety tsy dia mazava loatra.Aleo izaoinjeniera RSM mizara aminaoinduction sasany ny magnetron sputtering tanjona.
Sputtering kendrena: metaly sputtering coating kendrena, firaka sputtering coating kendrena, seramika sputtering coating kendrena, boride seramika sputtering kendrena, carbide seramika sputtering kendrena, fluoride seramika sputtering kendrena, nitride seramika sputtering kendrena, oxide seramika kendrena, selenide seramika sputtering kendrena lasibatra, lasibatra seramika sulfida, lasibatra seramika telluride, lasibatra seramika hafa, lasibatra seramika silisiôma silisiôma chromium doped (CR SiO), kendrena indium phosphide (INP), kendrena arsenide lead (pbas), kendrena indium arsenide (InAs).
Amin'ny ankapobeny dia mizara ho karazany roa ny fanodikodinana Magnetron: ny famafazana DC sy ny famafazana RF.Ny fitsipiky ny DC sputtering fitaovana dia tsotra, ary ny tahan'ny koa dia haingana rehefa sputtering metaly.Ny RF sputtering dia ampiasaina betsaka.Ho fanampin'ny fanodikodinana angon-drakitra conductive, dia afaka mitsambikina angon-drakitra tsy conductive ihany koa izy.Ny kendrena sputtering dia azo ampiasaina amin'ny sputtering mihetsiketsika hanomanana angona mitambatra toy ny oxides, nitride ary carbide.Raha mitombo ny fatran'ny RF, dia ho lasa mikrôby plasma sputtering.Amin'izao fotoana izao, ny electron cyclotron resonance (ECR) microwave plasma sputtering dia matetika ampiasaina.
Fotoana fandefasana: May-26-2022