Magnetron sputtering coating dia fomba vaovao etona coating ara-batana, raha oharina amin'ny teo aloha etona coating fomba, ny tombony amin'ny lafiny maro dia tena miavaka.Amin'ny maha-teknolojia matotra, ny magnetron sputtering dia nampiharina tamin'ny sehatra maro.
Ny fitsipiky ny fikorianan'ny Magnetron:
Misy sahan'andriamby orthogonal sy sahan-jiro ampiana eo anelanelan'ny tsato-kazo kendrena (cathode) sy ny anode, ary ny entona inert ilaina (matetika Ar entona) dia fenoina ao amin'ny efitrano banga avo.Ny andriamby maharitra dia mamorona sahan'andriamby 250-350 gaus eo ambonin'ny fitaovana kendrena, ary ny saha elektromagnetika orthogonal dia voaforona miaraka amin'ny saha elektrika avo lenta.Eo ambanin'ny vokatry ny herinaratra saha, Ar entona ionization ho tsara ion sy ny elektronika, kendrena ary manana fanerena ratsy sasany, avy amin'ny lasibatra avy amin'ny tsato-kazo ny vokatry ny sahan'andriamby sy ny miasa entona ionization mety mitombo, mamorona plasma hakitroky avo akaikin'ny cathode, Ar ion eo ambanin'ny hetsiky ny hery lorentz, manafaingana ny manidina ho any amin'ny kendrena ambonin'ny, baomba ny tanjona kendrena amin'ny hafainganam-pandeha avo, ny sputtered atoma amin'ny kendrena dia manaraka ny fitsipiky ny fiovam-po sy manidina lavitra ny kendrena ambonin'ny kinetika avo. angovo ho an'ny film deposition substrate.
Amin'ny ankapobeny dia mizara ho karazany roa ny fanodikodinana Magnetron: ny famafazana DC sy ny famafazana RF.Ny fitsipiky ny DC sputtering fitaovana dia tsotra, ary ny tahan'ny dia haingana rehefa sputtering metaly.Ny fampiasana ny RF sputtering dia midadasika kokoa, ankoatry ny sputtering fitaovana conductive, fa koa sputtering non-conductive fitaovana, fa koa reactive sputtering fanomanana ny oxides, nitride sy carbide sy fitaovana hafa.Raha mitombo ny fatran'ny RF, dia lasa mifofofofo plasma mikraoba izany.Amin'izao fotoana izao, dia matetika ampiasaina ny electron cyclotron resonance (ECR) karazana microwave plasma sputtering.
Magnetron sputtering coating fitaovana kendrena:
Metal sputtering kendrena fitaovana, coating firaka sputtering coating fitaovana, seramika sputtering coating fitaovana, boride seramika sputtering kendrena fitaovana, carbide seramika sputtering kendrena fitaovana, fluoride seramika sputtering fitaovana kendrena, nitride seramika sputtering fitaovana kendrena, oxide seramika kendrena, selenide kendrena fitaovana, selenide kendrena sputtering silicide seramika sputtering fitaovana kendrena, sulfide seramika sputtering fitaovana kendrena, Telluride seramika sputtering kendrena, seramika kendrena hafa, chromium-doped silisiôma oxide seramika kendrena (CR-SiO), indium phosphide kendrena (InP), lead arsenide kendrena (PbAs), indium arsenide tanjona (InAs).
Fotoana fandefasana: Aug-03-2022